薄膜光学与真空镀膜技术 2025 chm pdf kindle rb azw3 下载 115盘

本书比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺，内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系（减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片）的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。

上 篇

第1章绪论

1.1薄膜光学概述

1.2电磁理论基础

第2章光学薄膜特性计算

2.1递推法

2.2矢量法

2.3矩阵法

2.4非均匀介质膜特性计算

第3章光学薄膜的普遍定理

3.1透射定理

3.2普遍等效定理

3.3对称膜等效定理

3.4周期性多层膜理论

3.5诱导透射定理

第4章膜系设计方法

4.1 图解法

4.2解析法

4.3自动设计法

4.4其他设计法

第5章常用膜系分析与设计

5.1减反射膜（增透膜）

5.2反射膜

5.3分光膜

5.4截止滤光片

5.5带通滤光片

5.6光波斜入射对膜系的影响

5.7光学薄膜设计范例

第6章光学薄膜应用举例

6.1光学薄膜在导引头半实物仿真系统中的应用

6.2光学薄膜在眼镜行业中的应用

6.3截止滤光片的应用

6.4带通滤光片的应用

下 篇

概述

第7章真空镀膜设备

7.1真空基础知识

7.2真空的获得

7.3真空的测量与检漏

第8章真空薄膜沉积技术

8.1热蒸发镀膜技术

8.2溅射镀膜技术

8.3离子镀膜技术

8.4膜厚的监控

8.5获得均匀膜层的方法

第9章物理气相沉积薄膜的结构与特性

9.1薄膜形成与微观结构

9.2薄膜特性

9.3镀膜工艺对薄膜性能的影响

第10章光学薄膜的性能测试

10.1光学常数的测试

10.2光学性能的测试

10.3机械性能的测试

10.4其他性能的测试

第11章常用光学薄膜材料

11.1金属薄膜

11.2介质薄膜

11.3特殊材料

附录

附录1光学零件镀膜分类、符号及标注

附录2光学薄膜元件环境适应性试验方法

附录3光学和光学仪器光学薄膜

附录4 ISO 9211—1：2010

附录5 ISO 9211—2：2010

附录6 ISO 9211—3：2008（E）

附录7 ISO 9211—4：2006（E）

术语索引

参考文献

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了　《薄膜光学与真空镀膜技术》比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺，内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系（减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片）的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。

书籍介绍

本书比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺，内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系（减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片）的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。