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内容简介:
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书籍目录:
目 - -录
第0章 - -绪论
0. - -何谓集成电路工艺 - - - -
0.2 - -集成电路制造技术发展历程 - - - -
0.3 - -集成电路制造技术特点 - -
0.3. - -超净环境 -
0.3.2 - -超纯材料 - - -
0.3.3 - -批量复制和广泛的用途 - - -
0.4 - -本书内容结构 - - - -
第单元 - -硅衬底
第章 - -单晶硅特性
. - -硅晶体的结构特点 - - -
.. - -硅的性质 - - - -
..2 - -硅晶胞 - - - -
..3 - -硅单晶的晶向、晶面 -
.2 - -硅晶体缺陷 - -
.2. - -点缺陷 - - - -
.2.2 - -线缺陷 -
.2.3 - -面缺陷和体缺陷 - - -
.3 - -硅晶体中的杂质 - - - -
.3. - -杂质对硅电学性质的影响 - - -
.3.2 - -固溶度和相图 - - -
本章小结 - - -
第2章 - -硅片的制备
2. - -多晶硅的制备 - - -
2.. -&nbs
作者介绍:
哈尔滨工业大学,教学/科研方向 微电子工艺技术、纳米技术、MEMS、微流控系统技术。995~现在,哈尔滨工业大学微电子科学与技术系,实验室主任,2006年被聘副教授,主讲微电子工艺、纳米技术、固态电子论等课程,202年晋升教授级高工。自996年开始主讲微电子工艺课程,至今已近30年。200年版《集成电路制造技术―原理与工艺》教材,主编《固态电子论》203年3月由电子工业出版社出版__eol__发表教学与科研论文30余篇__eol__。
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编辑推荐
全书共分5个单元,单元,主要介绍单晶硅衬底结构特点,体硅和外延硅片的制造方法 第二单元~第五单元,主要介绍硅芯片制造基本单项工艺(氧化、掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试)的原理、方法、设备,以及依托的技术基础和发展趋势。每单元后都有习题。另外,还在附录中以双极性晶体管制作为例介绍微电子生产实习等内容。
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书籍真实打分
故事情节:3分
人物塑造:6分
主题深度:4分
文字风格:7分
语言运用:6分
文笔流畅:3分
思想传递:4分
知识深度:9分
知识广度:7分
实用性:6分
章节划分:6分
结构布局:7分
新颖与独特:4分
情感共鸣:6分
引人入胜:4分
现实相关:7分
沉浸感:8分
事实准确性:5分
文化贡献:9分